蔡司场发射扫描电镜Crossbeam 500场发射扫描电子显微镜

详细说明

蔡司场发射扫描电镜Crossbeam 500场发射扫描电子显微镜为您进行要求苛刻的材料表征并选择适合您的样品尺寸——标准尺寸或大尺寸。Gemini 2电子光学系统即使在低电压和高束流条件下亦可提供高分辨率。如需在高束流条件下获得高分辨率图像以及进行快速分析，这无疑是您的理想之选。

使您的扫描电镜具备强大的洞察力
通过样品台减速技术（Tandem decel，新型蔡司Gemini电子光学系统的一项功能）实现低电压电子束分辨率提升高达30%。
使用Gemini电子光学系统，您可以从高分辨率扫描电镜（SEM）图像中获取真实的样品信息。
在进行高度灵敏表面二维成像或三维断层成像时，您可以信赖蔡司双束电镜Crossbeam系列的性能。
即使在使用非常低的加速电压时也可获得高分辨率、高对比度和高信噪比的清晰图像。
借助一系列的探测器实现样品的全方位表征；使用独特的Inlens      EsB探测器获得更纯的材料成分衬度。
使用低电压表征不导电样品，消除荷电效应的影响。

提升您的聚焦离子束（FIB）样品制备效率
得益于智能聚焦离子束（FIB）的扫描策略，移除材料相比以往实验快40%以上。
镓离子FIB镜筒Ion-sculptor采用了全新的加工方式：尽可能减少样品损伤，提升样品质量，从而加快实验进程。
使用高达100 nA的离子束束流，高效而**地处理样品，并保持高分辨率。
制备TEM样品时，请使用镓离子FIB镜筒Ion-sculptor的低电压功能：获得超薄样品的同时，尽可能降低非晶化损伤。